UV曝光机光学系统异常分析 首页 产品应用与服务 UV曝光机光学 UV曝光机光学系统异常分析 由本公司专业服务人员携带仪器、量具等工具至客户端设备进行现场量测分析,可分析项目:能量均匀度不佳造成落曝或过曝现象,光角徧移造成曝光线路之CD线宽、线距改变等异常状况。 数量 : 加入询价车 相关商品与服务 UV曝光机镜片性能检测 (可对应波段范围:200nm以上) 裕群光电自行开发专用软体及专利量测仪器,客户不需将设备移出厂外,只需由 ... UV曝光机光谱量测 (可对应波段范围:300nm以上) 裕群光电自行开发专用软体及专利量测仪器,客户不需将设备移出厂外,只需由 ...