UV曝光机光学系统改造
（一）曝光面積重新設計:
当产品尺寸变更时，有些设备无法配合产品尺寸进行曝光区域变更，因此损失部分能量于无效区，本公司可依需求尺寸将光学镜片重新设计，使其曝光区域与产品尺寸相互搭配，减少能量损失，提昇产速产能。
（二）均勻度提昇：
当产品精度变更时，有些设备之均匀度无法满足产品精度之要求，本公司可依均匀度U%需求，重新设计镜片，以提昇均匀度及曝光线路品质。
（三）光譜改造：
当光阻材料变更时，有些设备之光谱无法完全搭配材料的化学反应所需波长，本公司可依不同之材料吸收光谱，重新设计镜片及镀膜，使最终光谱符合材料吸收特性。
