裕見未來.群現美好

(一)曝光面積重新設計:

當產品尺寸變更時,有些設備無法配合產品尺寸進行曝光區域變更,因此損失部分能量於無效區,本公司可依需求尺寸將光學鏡片重新設計,使其曝光區域與產品尺寸相互搭配,減少能量損失,提昇產速產能。


(二)均勻度提昇:

當產品精度變更時,有些設備之均勻度無法滿足產品精度之要求,本公司可依均勻度U%需求,重新設計鏡片,以提昇均勻度及曝光線路品質。


(三)光譜改造:

當光阻材料變更時,有些設備之光譜無法完全搭配材料的化學反應所需波長,本公司可依不同之材料吸收光譜,重新設計鏡片及鍍膜,使最終光譜符合材料吸收特性。


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